1.MXG1200-60管式炉 工作温度≤1100℃ 加热区尺寸460mm 恒温区尺寸230mm
石英管尺寸φ54mm*L1200mm
2.微行炉业配置真空系统
极限真空度0.1pa
3.微行炉业配置4路供气系统。每个气路均包含截止阀、质量流量控制器及控制电源。
选用进口（如英国warwick，美国MKS等）抗腐蚀（耐硅烷腐蚀）的质量流量控制器，流量在0－100SCCM间可调。
射频电源射频电源系统：
4.包括一套频率为13.56MHz的功率不低于300W的射频电源，国内外大厂生产，原产进口
电源系统输出功率稳定性≦±0.5%，长期稳定性≦±1%。功率调节分辨率1W或更小。射频电源可以工作于恒压、恒流、恒功率等模式。带功率自动匹配。
（咨询 5 杨程）
主要功能、技术指标、应用范围介绍：
一、设备介绍
MXG1200-PECVD系列等离子体增强化学气相沉积系统是利用辉光放电产生的等离子体中的电子的巨大动能与反应气体分子形成非弹性碰撞，使气体分子电离至分解从而达到高效激活气相的化学反应。该系统由MXG1200系列真空管式炉、石英反应腔室、射频电源、多通道混气系统、真空机组、反应控制系统组成。
二、功能特点
1、利用辉光放电产生等离子体电子激活气相；
2、提高了气相反应的沉积速率、成膜质量；
3、可通过调整射频电源频率来控制沉积速率；能广泛用于：石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生长。
开启式真空管式炉技术参数 |
石英管尺寸 | L1200mm Φ（60、80、100） |
加热元件 | 掺钼铁铬铝合金电阻丝 |
测温元件 | K型热电偶 |
加热区长度 | 440mm |
恒温区长度 | 200mm |
工作温度 | ≤1100℃ |
控温模式 | 智能控温、可编程30段 |
控温精度 | ±1℃ |
升温速率 | ≤20℃/min |
电功率 | AC220V/50HZ/3KW |
质量供气系统技术参数 |
混气管尺寸 | Φ80×120mm |
量程 | 100sccm\\200sccm\\500sccm |
数显压力表测量范围 | -0.1Mpa～0.15Mpa |
极限压力 | 3MPa |
针阀 | 316不锈钢 |
截止阀 | Φ6mm 316不锈钢针阀 |
电功率 | AC220V/50HZ/20W |
真空系统技术参数 |
连接方式 | KF25/40 |
抽速 | 4L/S |
极限真空度（标准腔体） | 0.1Pa |
测量范围(电阻规) | 100000Pa～0.1Pa |
电功率 | AC220V/50HZ/400W |
射频电源 |
输出功率范围 | 5～500W |
控制模式 | 手动/PLC/PC |
工作频率 | 13.56MHZ标准正弦波 |
供电电压 | 单相交流（190V～240V） |
冷却方式 | 风冷 |